半導体フォトレジスト用ポリマー

KrFフォトレジスト用ポリマー

 KrFフォトレジスト用ポリマーとしてはPHS(ポリヒドロキシスチレン)があげられます。これは種々のモノマーから重合によって得られますが、私達は設備コスト等の観点からラジカル重合によるPHSの重合を推奨しております。私達は低コストで品質の安定したPHSの開発をコンサルティングしていきます。

ArFフォトレジスト用ポリマー

 フォトレジストに要求される性能は保存安定性、環境安全性、微細解像性、低欠陥など多岐にわたりますが、この性能を決めるうえで重要な役割を果たしているのがポリマー(高分子化合物)です。ポリマーはモノマー(低分子化合物)と呼ばれる構成単位がいくつもつながった形をしており、このモノマーの構造を変えることで様々な機能を付与することができます。また、モノマーの構成比率によっても性能を変化させることができます。

その為、私たちは、高機能なモノマーの開発や、組成比率を細かく調整し最適化を支援していくことで様々な要求に応えられるアクリルポリマーの開発をコンサルティングしていきます。