KrF 248nm（クリプトンレーザー)の露光波長に対応するため、アルカリ溶解抑制効果を持たせたPHS樹脂と酸発生剤（PAG)を用いた化学増幅系フォトレジストです。

最先端のEUV露光機が出現し、それに対応したEUVフォトレジストが開発される中、KrFフォトレジストの需要は無くなっていくように思われていました。ところが、3D NANDメモリーでは、相変わらずKrFフォトレジストが使われ、その積層数も236層にまで達しており、市場は拡大しております。

私達は低コストで品質の安定したKrFフォトレジストの開発をコンサルティングしていきます。