分析技術はフォトレジストの開発、フォトレジスト用ポリマーの開発のみならず、そのQCQAにも非常に深く関わってきます。

フォトレジストの世界では「良いものを作るより、同じものを作り続けることの方が難しい」と言われています。その同じものが出来ているかどうかを確認するのが分析技術です。

分析技術は単に分析機器を操作すれば良いものではなく、個別のノウハウが詰まっております。例えば、半導体フォトレジストに要求される金属不純物の許容範囲はppm「parts per million（100万分の一）」やppb「parts per billion（10億分の一）」ではなくppt「parts per trillion（1兆分の一）」のオーダーを要求されます。

これらを安定的に分析できる技術がQCQA、半導体フォトレジスト用ポリマーの開発、半導体フォトレジストの開発を支えています。